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涉密光电磁介质资质具体条件甲级、乙级

发布:2023-12-04 15:05,更新:2024-11-14 07:08
 涉密光电磁介质资质具体条件:


(一)甲级资质


1. 取得《复制经营许可证》。

2. 上一个会计年度净资产不少于1000万元人民币。

3. 在本单位依法缴纳shebao一年以上的人员不少于30名。

4. 具有自有产权或者租赁期3年(含)以上的固定生产经营场所,建筑面积不少于1000平方米。

5. 具备独立的保密室和具有涉密光电磁介质复制业务所必需的印制车间、成品库、废品库等功能场所,实行封闭式管理,周边环境安全可控。

6. 具有功能完备的光电磁介质生产设备。



(二)乙级资质


1. 取得《复制经营许可证》。

2. 上一个会计年度净资产不少于200万元人民币。

3. 在本单位依法缴纳shebao一年以上的人员不少于15名。

4. 具有自有产权或者租赁期3年(含)以上的固定生产经营场所,建筑面积不少于200平方米。

5. 具备独立的保密室和具有涉密光电磁介质复制业务所必需的印制车间、成品库、废品库等功能场所,实行封闭式管理,周边环境安全可控。

6. 具有功能完备的光电磁介质生产设备。


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